Apple hợp tác cùng chính phủ Mỹ nghiên cứu giải pháp cải thiện thời lượng pin cho các thiết bị điện tử

Apple được cho đang nghiên cứu một lớp phủ pin mới giúp tăng thời lượng pin trong dự án hợp tác với chính phủ Mỹ.

Sáng chế có sự hỗ trợ của chính phủ Mỹ theo kế hoạch đề xuất WFO số 85F59. Sáng chế này được thực hiện theo hợp đồng CRADA 1500801 giữa Apple và Phòng thí nghiệm Quốc gia Argonne thuộc Bộ Năng lượng Mỹ. Chính phủ Mỹ cũng sẽ có một số quyền sở hữu nhất định đối với sáng chế.

Các kim loại chuyển tiếp từ catot thường sẽ hòa tan vào chất điện phân. Giảm thiểu sự hòa tan này, người ta sẽ phủ một lớp nhôm oxit hoặc nhôm florua lên trên điện cực. Tuy nhiên, lớp phủ như vậy sẽ dẫn đến giảm mật độ năng lượng trong pin.

Vì vậy chúng ta sẽ cần một lớp phủ không ảnh hưởng đến hiệu suất của pin.

Bằng sáng chế đề cập đến một lớp phủ giúp duy trì năng lượng và điện áp trung bình tốt hơn. Lớp phủ là sự pha trộn giữa vật liệu tạo bề mặt và vật liệu catot lithium-ion giúp giữ lại năng lượng và cải thiện khả năng duy trì chu kỳ thay thế cho lớp phủ nhôm truyền thống. Nói cách khác, lớp phủ mới sẽ làm tăng chu kỳ sạc, đồng thời giúp pin hoạt động hiệu quả hơn.

Các cell pin được tạo thành từ các lớp khác nhau xếp chồng lên nhau. Nó bao gồm các vật liệu anot, catot và tấm cách điện. Hơn nữa, loại pin mới sẽ thay thế lớp phủ nhôm bằng LLGO hoặc oxit lithium-ion có chứa lantan và germanium. Sự sắp xếp này giúp tăng điện áp trung bình và giữ nguồn năng lượng tốt hơn.

Theo bằng sáng chế của Apple, lớp phủ này có thể sử dụng trên các loại pin cấp nguồn cho iPhone, iPad, iPod, Apple Watch và thậm chí cả máy Mac. Vì chính phủ Mỹ có quyền đối với sáng chế, lớp phủ pin mới có thể được sử dụng trong các thiết bị quân sự và các ứng dụng liên quan khác.

Tham khảo iPhonehacks

PV

Nguồn Dân Sinh: http://baodansinh.vn/apple-hop-tac-cung-chinh-phu-my-nghien-cuu-giai-phap-cai-thien-thoi-luong-pin-cho-cac-thiet-bi-dien-tu-20210218151629626.htm